PVD材料、技術問答
2022-04-24 11:13
一鍵分享
1.什么是PVD?
PVD是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition),指利用物理過程實現(xiàn)物質轉移,將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程
2.什么是CVD?
CVD(Chemical Vapor Deposition, 化學氣相沉積),指把含有構成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室,在基材表面發(fā)生化學反應生成薄膜的過程
3.PVD的優(yōu)點是什么?
PVD物理氣相沉積方法工藝溫度低,通常涂層的沉積溫度為450度℃,沒有任何污染的一種環(huán)保表面處理方法,為世界發(fā)達國家所推崇。
4.PVD的適用范圍是什么?
目前大家所接觸的通常有以下幾類,光學鍍膜(鏡片,玻璃等)、裝飾鍍膜、功能鍍膜等、每個行業(yè)的涂層要求是不一樣的,評判標準也不一樣。
5.PVD的常用方法有哪些?
PVD通常的方法有:蒸發(fā),濺射,電弧等方法,每種方法各有特點,如濺射方法顆粒細,缺陷少但結合不佳,電弧方法顆粒大,結合力好,但顆粒較粗,表面缺陷較多如液滴。
6.勝倍爾的PVD方法是什么?
我司用的是增加磁控濺射、磁控陰極弧和離子束相結合的方法。
7. 勝倍爾的PVD工藝溫度是多少?
我司根據(jù)客戶產(chǎn)品的不同,涂層工藝溫度從60度℃~250℃度
? 企業(yè)新聞
? 行業(yè)新聞